技術編號：8132925
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本實用新型涉及用于化學氣相沉積的電弧等離子炬技術領域。背景技術等離子炬是一種產(chǎn)生等離子體的裝置，根據(jù)原理的不同，可以分為射頻等離子炬 和電弧等離子炬兩種。本實用新型屬于電弧等離子炬。電弧等離子炬最早用于切割和噴 涂，一般有一個陰極和一個陽極，用于氣相沉積的等離子炬多在此基礎上發(fā)展而來。為了增 加炬的功率和擴大沉積面積，進行了多種改進。中國專利93109966. 8、日本專利07-085992 拉長了陰極和陽極間的距離，通過提高弧壓來增大功率，但沉積面積仍然較小。日本專利 06-087689、06-18388...
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