技術(shù)編號(hào)：8082711
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利摘要本實(shí)用新型實(shí)施例公開了一種低溫等離子體處理裝置，其中，一種低溫等離子體處理裝置包括進(jìn)行等離子體反應(yīng)的反應(yīng)室，所述反應(yīng)室內(nèi)側(cè)設(shè)置有第一電極板和第二電極板，第一電極板與所述反應(yīng)室外殼絕緣，第二電極板與所述反應(yīng)室外殼一起接地；所述反應(yīng)室設(shè)置有進(jìn)氣口，反應(yīng)室與第一電極板之間設(shè)有氣體分配器，工作氣體通過所述進(jìn)氣口經(jīng)過所述氣體分配器進(jìn)入所述反應(yīng)室，所述反應(yīng)室的兩側(cè)設(shè)置有反應(yīng)后氣體的出氣口；至少兩個(gè)射頻源通過相應(yīng)的射頻源匹配網(wǎng)絡(luò)，利用饋入元件與第一電極板上的射頻饋入點(diǎn)連接，所述第一電極板上的射頻饋入點(diǎn)至少為兩個(gè)。采用本實(shí)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。