技術(shù)編號(hào):8065855
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。專(zhuān)利摘要提供結(jié)晶性高的大口徑的SiC單晶。一種SiC單晶,其包含具有c面以及非c面的籽晶;和以所述籽晶的c面以及非c面為基點(diǎn),在c面方向以及非c面方向生長(zhǎng)了的c面生長(zhǎng)部以及口徑擴(kuò)大部,在與所述籽晶的c面平行的、包含所述籽晶以及所述口徑擴(kuò)大部的平面內(nèi),在所述平面內(nèi)的周邊部存在不含貫穿位錯(cuò)的連續(xù)區(qū)域,所述連續(xù)區(qū)域的面積相對(duì)于所述平面整體的面積占有50%以上的面積。專(zhuān)利說(shuō)明技術(shù)領(lǐng)域[0001]本發(fā)明涉及適合作為半導(dǎo)體元件的,更詳細(xì)而言,涉及位錯(cuò)和缺陷少的高品質(zhì)的SiC單晶以及采用熔液法的高品質(zhì)的SiC單晶的制造方法。背景...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。