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可減少電弧石英坩堝內(nèi)表面質(zhì)量缺陷的石墨電極結(jié)構(gòu)的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):8053918

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技術(shù)領(lǐng)域本實(shí)用新型涉及一種可減少電弧石英坩堝內(nèi)表面質(zhì)量缺陷的石墨電極結(jié)構(gòu)。 背景技術(shù)電弧石英坩堝用于熔融硅拉制單晶硅,而單晶硅廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體或太陽能電池等的單晶硅。采用切克勞斯基(Czochralski)法拉制單晶硅時(shí),電弧石英坩堝被用于容納硅熔體。在此方法中,一粒具有預(yù)定取向的種晶被浸入熔體,然后緩緩拉出。種晶和熔體以不同方向旋轉(zhuǎn)。種晶和熔體之間的表面張力使得熔體隨種晶被拉出,所述熔體逐漸凝固,最終固化成一個(gè)不斷生長(zhǎng)的硅單晶。在石英坩堝的熔制過程中,由于電弧溫度很高,內(nèi)表面會(huì)被部分氣化,產(chǎn)生二氧化硅蒸汽,這些氣...
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