技術編號：8050617
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本發(fā)明涉及微波等離子體源和使用其的等離子體處理裝置。 背景技術在半導體設備和液晶顯示裝置的制造工序中，為了在半導體晶片或玻璃基板等這樣的被處理基板上實施蝕刻處理或成膜處理等等離子體處理，使用等離子體蝕刻裝置或等離子體CVD成膜裝置等等離子體處理裝置。最近，作為這樣的等離子體處理裝置，能以高密度均勻地形成低電子溫度的表面波等離子體的RLSA (Radial Line Slot Antenna)微波等離子體處理裝置備受關注(例如， 專利文獻1)。RLSA微波等離子體處理裝置，在腔室(處理容器)的上部設置以規(guī)定的...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。