技術(shù)編號(hào)：8040820
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，尤其涉及一種快速熱處理設(shè)備的邊緣環(huán)以及快速熱 處理設(shè)備。背景技術(shù)快速熱處理(Rapid thermal processing, RTP)工藝是將晶片快速加熱到設(shè)定溫 度，進(jìn)行短時(shí)間快速熱處理的方法，熱處理時(shí)間通常小于1 2分鐘，RTP設(shè)備可以快速升 至工藝要求的溫度，并快速冷卻，通常升(降)溫的速度為20 250°C/秒。過(guò)去幾年間， RTP工藝已逐漸成為先進(jìn)半導(dǎo)體制造必不可少的一項(xiàng)工藝，其可用于氧化、退化、金屬硅化 物的形成和快速熱化學(xué)沉積。RTP設(shè)備快速升溫、短時(shí)間快速處理的能...
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