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一種大面積均勻產(chǎn)生等離子體的裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):8035015

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技術(shù)領(lǐng)域本實(shí)用新型涉及等離子體產(chǎn)生裝置領(lǐng)域,具體為一種大面積均勻產(chǎn)生等離子體的直O(jiān)背景技術(shù)材料處理中所采用的等離子體是由射頻低氣壓放電產(chǎn)生的非平衡等離子體。這種 等離子體最顯著的特性的是不同種類的粒子具有不同的能量,即電子的溫度很高,一般是 幾個(gè)電子伏特左右(約為幾萬(wàn)度),而離子及活性粒子團(tuán)的溫度很低,正是這些高能電子的 存在,才能夠引起非平衡化學(xué)反應(yīng)。高頻放電通常直電容耦合放電、電感耦合放電、微波電 子回旋共振放電、螺旋波放電等。為實(shí)現(xiàn)微細(xì)、大面積和高速加工的目的,等離子體必須具 備低氣壓、大口徑、高密度等特性。...
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