技術(shù)編號(hào)：8032183
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利說明 一、技術(shù)領(lǐng)域本實(shí)用新型涉及一種輻射能吸收器的表面結(jié)構(gòu)模式。二背景技術(shù)目前，較先進(jìn)的選擇性吸收膜鍍覆工藝是磁控離子濺射鍍。利用場(chǎng)致效應(yīng)將化合物沉積在工件表面，由于電磁場(chǎng)的趨膚效應(yīng)，大面積、平滑表面鍍膜較均勻。但是，由金屬壓鑄或塑料注射一次成型的微結(jié)構(gòu)，為了增大吸收的有效面積(提高體表面比)，表面做成復(fù)雜的幾何體，特別是孔徑、深度比很小的盲孔，形成內(nèi)部電磁場(chǎng)的等位體狀態(tài)，加之尖端效應(yīng)使其內(nèi)表面(盲孔底面和立面)不僅離子濺射鍍不上膜，甚至極性氧化、化學(xué)鍍、電鍍都難以奏效。而采取噴涂法，現(xiàn)有涂料的吸收特性又極差...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。