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基于雙氣體源的大氣壓放電冷等離子體發(fā)生器的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:8030582

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技術(shù)領域本發(fā)明屬于大氣壓冷等離子體發(fā)生器技術(shù)領域。背景技術(shù) 目前,在低氣壓條件下可以產(chǎn)生大面積的非平衡冷等離子體,但真空腔的存在,一方面使得設備的制造和維護費用大大增加,另一方面也限制了被處理工件的幾何尺寸,從而極大地限制了其應用范圍。當前在大氣壓條件下能夠產(chǎn)生的等離子體有兩種,一種是熱等離子體,其特征是氣體溫度往往很高,大約10000K量級,主要用于等離子體噴涂、切割、焊接、廢物處理、材料表面加工等領域。由于熱等離子體溫度很高,因此,對于畏熱材料,不能采用其進行處理;另一種是冷等離子體,其特征是氣體溫度很低(接近...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。

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