技術(shù)編號(hào)：8029294
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及用于基片表面的等離子體處理的裝置。背景技術(shù) 表面的等離子體處理是用于各種不同技術(shù)領(lǐng)域的制造。比如，等離子體處理用在微電子學(xué)、光學(xué)和光子學(xué)中，來(lái)覆蓋基片的表面和將結(jié)構(gòu)蝕刻到基片中。等離子體處理能夠用于薄膜覆蓋基片，或?qū)^(qū)域或結(jié)構(gòu)蝕刻到基片中。通常，等離子體處理的特征在于，其處理的表面具有比如厚度、密度、折射率、微觀結(jié)構(gòu)以及合成物的特性。這些表面特性的獲得是依賴于等離子體處理的類型和控制程度。通常都是希望表面的覆蓋層盡量均勻。比如，對(duì)于光子學(xué)應(yīng)用比如高密度分波多工(Dense Wavelength D...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。