技術(shù)編號(hào):7859741
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明屬于超大面陣探測(cè)器拼接的無(wú)縫成像光電系統(tǒng),特別是一種雙鏡頭25片面陣探測(cè)器的無(wú)縫拼接成像光電系統(tǒng)。背景技術(shù)隨著航空、航天技術(shù)的發(fā)展,對(duì)大面陣以及超大面陣的光電成像系統(tǒng)需求越來(lái)越急迫。常采用兩種方式實(shí)現(xiàn)大面陣規(guī)模成像,一是在探測(cè)器廠家定制超大規(guī)模探測(cè)器器件,二是采用探測(cè)器拼接。目前國(guó)際上單片大面陣探測(cè)器規(guī)模在17kX15k (DMC250)左右,非貨架商品,應(yīng)用成本昂貴。另外進(jìn)一步增大單片探測(cè)器規(guī)模也是當(dāng)前探測(cè)器發(fā)展的一個(gè)技術(shù)瓶頸。 國(guó)外采用拼接方式的航空測(cè)繪相機(jī),如UCE探測(cè)器規(guī)模已達(dá)到20kX 13...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。