技術(shù)編號(hào)：7706729
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻用掩模的形成方法、光刻用掩模數(shù)據(jù)的形成方法、 背照射型固體攝像器件制造方法、背照射型固體攝像器件以及電子裝置。背景技術(shù)作為固體攝像器件中的一種，存在著所謂的背照射型CMOS (互補(bǔ)金 屬氧化物半導(dǎo)體)圖像傳感器，其從與形成有元件區(qū)域之布線部的表面(前 面)相對的表面(背面)側(cè)獲取入射光，且在上述元件區(qū)域中形成有光電轉(zhuǎn) 換元件(例如參考日本專利特開公報(bào)2003-31785 (專利文件l))。通過采用 從背側(cè)獲取入射光的結(jié)構(gòu)，不必考慮光接收面來布...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。