技術(shù)編號：769763
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了一種用于線陣列微納焦點X射線源的點狀串列靶，包括靶基和設(shè)置在靶基上的點狀串列靶點，所述點狀串列靶點包括若干個點狀靶點，若干個點狀靶點按一定的距離間隔排列，所述靶點轉(zhuǎn)化為X射線的能力遠大于靶基。本發(fā)明所產(chǎn)生的焦斑大小僅由點狀靶結(jié)構(gòu)的形狀和大小來決定，與電子束大小不發(fā)生直接聯(lián)系，這樣有利于形成穩(wěn)定的、微納尺寸的多焦點陣列，大大降低了對電子束聚焦尺寸、掃描偏轉(zhuǎn)精度控制等的要求，簡化了微納射線源聚焦、偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，降低了加工制造難度，從而降低了生產(chǎn)成本...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。