技術(shù)編號：7265374
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種，包括提供襯底；在所述襯底表面形成柵介質(zhì)層；對所述柵介質(zhì)層表面進行還原氣體焙烤；對所述柵介質(zhì)層表面進行吹掃；在吹掃過的柵介質(zhì)層表面上形成柵極層；圖形化所述柵極層以形成柵極。本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點對襯底的表面進行還原氣體焙烤以及吹掃處理，去除了所述柵介質(zhì)層表面上的雜質(zhì)，減小了后續(xù)步驟中在所述柵介質(zhì)層表面形成柵極層時產(chǎn)生凸起缺陷的幾率。專利說明 [0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)，具體涉及一種。 背景技術(shù) [0002]隨著集成電路制造技術(shù)...
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