技術編號：7254993
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明公開了一種，提供一MOCVD設備，該MOCVD設備包括一加熱器，所述加熱器的邊緣形成有一圈氣孔，清洗氣體通過所述氣孔沿豎直襯底的方向流向半導體的邊緣，通過控制所述清洗氣體的流量以改變半導體邊緣成膜的厚度，減小半導體中心電阻與邊緣電阻之間的電阻差。本發(fā)明通過直接改變半導體邊緣成膜的厚度，可以有效控制半導體邊緣電阻的大小，大大減小半導體邊緣與中心部位的電阻差，實現電阻均勻性的最優(yōu)化。專利說明[0001]本發(fā)明屬于半導體制造領域，特別涉及一種。背景技術[0...
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