技術編號：7254340
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。提供一種根據(jù)微透鏡的孔徑形狀而通過開口陣列來抑制主波束周邊的旁瓣，進行高精細曝光的曝光裝置以及曝光方法。通過在微透鏡(64a)的射出側設置遮光部(66b)，使在微透鏡(64a)的焦點位置附近的旁瓣(Bb)的位置進行移動。在通過第二開口陣列(68)之前主波束(Ba)收斂為左右，此外，旁瓣(Bb)在離主波束(Ba)的中心的的范圍中與現(xiàn)有例相比相對強度大約抑制為1/10左右。在通過第二開口陣列(68)集中激光(B)的結果，能夠作為具有能夠忽略主波束(Ba)的周圍...
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