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曝光裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):72531

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技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種曝光裝置。 背景技術(shù)以往,在長(zhǎng)波長(zhǎng)的紅~紅外區(qū)域發(fā)光的半導(dǎo)體激光器中,在把從激光晶體射出的光束轉(zhuǎn)換為大致平行的光或匯聚光的耦合透鏡之后設(shè)置光束限制裝置(光闌),或利用耦合透鏡的孔徑來(lái)限制光束,進(jìn)行光束的整形。 在近年已得到實(shí)用的發(fā)出藍(lán)色光的GaN系列半導(dǎo)體激光器中,作為基板的藍(lán)寶石或SiC(碳化硅)等使用不吸收藍(lán)色光的材質(zhì)。 因此,會(huì)出現(xiàn)在發(fā)光的LD芯片內(nèi)部反射的反射光成為雜散光放射到外部,或者返回到活性區(qū)域附近,給激光器的振蕩狀態(tài)帶來(lái)不良影響等的現(xiàn)象。由此,產(chǎn)生與LD芯片的PN接合面垂...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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