技術(shù)編號：7247442
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明適用于發(fā)光，提供了一種發(fā)光器件制備方法及發(fā)光器件。該發(fā)光器件制備方法包括曝光、顯影、蝕刻及沉積等步驟。本發(fā)明發(fā)光器件制備方法，通過曝光、顯影等步驟，實(shí)現(xiàn)發(fā)光層上的金屬納米凸起能夠有規(guī)則的分布，克服了現(xiàn)有技術(shù)所制備的納米凸起難以實(shí)現(xiàn)規(guī)則分布的技術(shù)問題，使得發(fā)光器件的發(fā)光效率得到顯著提升。專利說明發(fā)光器件制備方法及發(fā)光器件[0001]本發(fā)明屬于發(fā)光結(jié)構(gòu)領(lǐng)域，尤其涉及一種發(fā)光器件制備方法及發(fā)光器件。背景技術(shù)[0002]溫室效應(yīng)、能源危機(jī)以及生態(tài)環(huán)境日益惡化...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。