技術(shù)編號：7245285
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了一種改善溝槽側(cè)壁“扇貝”形貌的干法刻蝕工藝方法，步驟包括1）涂膠，曝光，定義鎢通道尺寸；2）高壓下，預淀積聚合物；3）預刻蝕聚合物；4）在溝槽側(cè)壁和底部淀積聚合物；5）交迭進行聚合物刻蝕和淀積；6）深溝槽各向異性干法刻蝕，徹底打開溝槽底部聚合物，并刻蝕底部單晶硅，形成小單晶硅溝槽；7）循環(huán)進行步驟4）至6），直至達到要求的鎢通道深度。本發(fā)明利用刻蝕和淀積交迭步驟來控制溝槽側(cè)壁和底部的聚合物厚度，以保護溝槽側(cè)壁的聚合物，這樣大大降低了溝槽側(cè)壁“扇...
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