技術(shù)編號:7245070
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提出一種肖特基MOS半導(dǎo)體裝,將肖特基勢壘結(jié)代替?zhèn)鹘y(tǒng)MOS器件的源區(qū)和體區(qū),通過柵極偏壓在漂移區(qū)形成高濃度的載流子區(qū)域,形成器件的溝道;同時本發(fā)明將電荷補償結(jié)構(gòu)引入到肖特基MOS結(jié)構(gòu)中。本發(fā)明還提供一種肖特基MOS半導(dǎo)體裝置的制備方法。專利說明一種肖特基MOS半導(dǎo)體裝置及其制備方法[0001]本發(fā)明主要涉及到一種肖特基MOS半導(dǎo)體裝置,本發(fā)明還涉及一種肖特基MOS半導(dǎo)體裝置的制備工藝。背景技術(shù)[0002]具有肖特基結(jié)構(gòu)和超結(jié)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體器件,已成為器...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。