技術(shù)編號(hào)：7237885
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于對(duì)半導(dǎo)體晶片等被處理基板的表面進(jìn)行氧化的半 導(dǎo)體處理用氧化裝置和方法。在這里，所謂半導(dǎo)體處理是指通過在半導(dǎo)體晶片和例如LCD(Liquid Crystal Display液晶顯示器)的FPD(Flat Panel Display平板顯示器)用的玻璃基板等被處理基板上按照規(guī)定的 圖形形成半導(dǎo)體層、絕緣層、導(dǎo)電層等，用來在該被處理基板上制造 包含半導(dǎo)體器件以及與半導(dǎo)體器件連接的配線、電極等的結(jié)構(gòu)而實(shí)施 的各種處理。背景技術(shù)一般來講，為了制作半導(dǎo)體...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。