技術(shù)編號：7231437
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本申請涉及一種半導(dǎo)體器件，且更具體而言，涉及一種重疊對準圖案(overlay vernier key )及其制造方法。 背景技術(shù)在具有疊層結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體器件的制造中，重疊(overlay)是表明形成于 前一工藝中的層和形成于目前的工藝中的層的對準狀態(tài)的指標。當開發(fā)高集 成度的半導(dǎo)體器件時重疊是非常重要的。為了探測和校正形成于前一工藝中 的層和形成于目前的工藝中的層的對準狀態(tài)，層之間的重疊通過在劃線區(qū)中 形成重疊對準圖案來測量。重疊對準圖案是當在半導(dǎo)體襯底上形...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。