技術(shù)編號(hào)：7231250
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻設(shè)備、用于光刻設(shè)備的透鏡干涉儀以及制造裝置的方法。背景技術(shù) 光刻設(shè)備是一種將想要的圖案施加到襯底(通常為襯底的目標(biāo)部分)上的機(jī)器。光刻設(shè)備可用于比如集成電路(IC)的制造。在那種情形下，可利用另外被稱為掩?；蚍謩澃宓膱D案形成裝置生成將在IC的單個(gè)層上形成的電路圖案。該圖案可被轉(zhuǎn)移到襯底(如硅片)上的目標(biāo)部分(如包含一個(gè)或若干管芯的部分)。圖案的轉(zhuǎn)移通常借助于在襯底上設(shè)置的輻射敏感材料層(光刻膠)上的成像。一般地，單個(gè)襯底將包含被連續(xù)圖案化的相...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。