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金屬層套刻標(biāo)記的制備方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):7230484

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本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造中的 背景技術(shù)目前的套刻膜層設(shè)計(jì)通常為(見(jiàn)圖1)傳統(tǒng)工藝中套刻標(biāo)記的膜層 的制造工藝步驟為金屬層上沉積一層金屬間隔離層;刻蝕出套刻標(biāo)記的 外框;然后制作鎢塞;金屬濺射沉積;光刻膠光刻,制作出套刻標(biāo)記的內(nèi) 框。這個(gè)過(guò)程中,在套刻記號(hào)的下層必須有一金屬層,作為刻蝕阻擋層, 如果沒(méi)有這層阻擋層,那么刻蝕的深度就會(huì)有比較大的漲落,造成套刻標(biāo) 記的信號(hào)的強(qiáng)度不穩(wěn)定;但是有了這層金屬層之后,套刻標(biāo)記的深度受制 于金屬間隔離層的厚度,深度相對(duì)穩(wěn)定...
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