技術(shù)編號：7230258
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及通過用微波電力使氣體等離子體化對被處理體進(jìn)行等離子體處理的等離子體處理裝置、微波等離子體處理裝置的制造方法和等離子體處理方法。更詳細(xì)地涉及支撐電介質(zhì)的梁的固定方法。背景技術(shù) 至今，一直在開發(fā)使供給處理室內(nèi)的氣體等離子體化，對基板等被處理體進(jìn)行等離子體處理的各種等離子體處理裝置。其中，微波等離子體處理裝置，通過用微波電力電離和離解氣體生成等離子體，由生成的等離子體對基板施加CVD(化學(xué)氣相淀積法ChemicalVapor Deposition)處理...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。