技術編號：7229317
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明是有關于半導體制造的，且特別是有關于一種關于在微影(photolithography)制程中，可以減少或解決光罩的沉積物缺陷(precipitate defects)的裝置與方法。背景技術 光罩(photomasks or reticles)已經普遍被使用于半導體制造的微影制程中。典型的光罩是使用非常平的石英或玻璃板，并在板體的其中一側面沉積一層鉻所制作而成。在微影制程中，會將光罩(如二位元明暗度光罩(Binary Intensity Mask，BI...
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