技術(shù)編號：7223739
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。技術(shù)背景以往，半導(dǎo)體器件具有各種絕緣膜。在這些絕緣膜中，有IC的層間 絕緣膜(例如，低介電常數(shù)膜(以下稱為"Low-k膜")、形成在布線之 間的布線材料的阻擋層絕緣膜、和高介電常數(shù)柵極絕緣膜(以下稱為 "High-k膜")等。另夕卜，關(guān)于絕緣膜的材料，使用SiN、 SiON、 SiOCH、 SiOCNH、 SiCH、 SiCNH、 SiOCF、 SiCF等。Low-k膜要求具有低介電常數(shù)和高機(jī)械強(qiáng)度。用于實(shí)現(xiàn)低介電常數(shù)的 一種方法是，對Low-...
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