技術編號：7223353
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種通過光掩模對被曝光體照射曝光光，從而形成曝光圖案 的曝光裝置。更具體來說，涉及一種提高對長方形光掩模照射曝光光的利用 效率的曝光裝置。背景技術如圖7所示，在現(xiàn)有曝光裝置中，曝光光學系統(tǒng)具有光源2，其由用于 紫外線照射的例如超高壓汞燈構成；凹面鏡3，其對光源2的照射光進行聚光； 圓柱狀光學積分器(optical integrator) 4，其配置在凹面鏡3的焦點附近，用 于使光線L在曝光面上的亮度分布均勻；曲面反射鏡7，其配置在光學積分 器4和...
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