技術(shù)編號(hào):7213565
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于激光直接寫入,特別涉及基于諧波共振方法的并行激光直接寫入方法與裝置。背景技術(shù) 現(xiàn)有的激光直寫技術(shù)均采用單點(diǎn)曝光模式,制作效率較低。為了提高微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)等器件的制作效率,國(guó)內(nèi)外學(xué)者作了很多有益嘗試。專利200410017768.6“高分辨力數(shù)字化微光學(xué)灰度掩模制作系統(tǒng)及制作方法”利用兩個(gè)至三個(gè)空間光調(diào)制器組合調(diào)制寫入激光,通過(guò)精縮投影物鏡投影完成曝光制作,該發(fā)明能夠提高系統(tǒng)光強(qiáng)調(diào)制分辨力,但是該系統(tǒng)存在對(duì)寫入激光的功率、空間光調(diào)制器像元微鏡性...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。