技術(shù)編號：7212298
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù) 光刻設(shè)備是在襯底上，通常在襯底的目標(biāo)部分上施加所希望圖案的機(jī)器。光刻設(shè)備可以用在例如在集成電路(IC)的制造中。例如，可選擇地稱為掩膜或刻線的構(gòu)圖裝置，其可以用于在IC的單層上產(chǎn)生要形成的電路圖案。這個(gè)圖案可以轉(zhuǎn)移到襯底(例如硅襯底)上的目標(biāo)部分(例如包括一個(gè)或多個(gè)管芯的一部分)上。典型地通過在襯底上提供的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上成像來轉(zhuǎn)移圖案。通常，單個(gè)襯底會包含相繼構(gòu)圖的一組鄰接目標(biāo)部分。已知的光刻設(shè)備包括所謂的步進(jìn)機(jī)，其中...
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