技術(shù)編號：7212056
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種選擇柵格模型以在光刻設(shè)備中針對柵格變形來修正工藝配方(process recipe)的方法，并且涉及一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，用于當(dāng)由處理器運(yùn)行該計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品時執(zhí)行該方法。本發(fā)明還涉及一種使用該方法的光刻組件和使用該光刻組件的器件制造方法。背景技術(shù) 光刻設(shè)備是將期望的圖案涂敷到襯底上、通常是涂敷到襯底的目標(biāo)部位上的機(jī)器。例如，光刻設(shè)備可被用于制造集成電路(IC)。在那種情況下，構(gòu)圖裝置(其可替換地被稱為掩膜或中間掩膜(reticle))可被用來產(chǎn)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。