技術編號:7209043
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明的設備的實施例關于一種用于基板的紫外線處理中的微波反射器。 背景技術在集成電路、顯示器及太陽能面板的制造中,需將介電材料、半導體材料及導電材料的層形成于諸如半導體晶圓、玻璃面板或金屬面板的基板上。接著處理此等層以形成諸如電互連、介電層、柵極及電極的特征結構。在隨后工藝中,可用紫外線輻射來處理形成于基板上的層或特征結構。紫外線輻射具有小于500nm的波長,例如IOnm至500nm。紫外線輻射可用于快速熱處理(RTP)中以快速地加熱形成于基板上的層。紫外...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。