技術(shù)編號(hào)：7208230
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及靜電吸盤裝置和判斷基片的吸附狀態(tài)的方法，更具體地，涉及具有用 來判斷基片的吸附狀態(tài)的吸附判斷單元的靜電吸盤裝置、和使用了該靜電吸盤裝置的基片 的吸附狀態(tài)判斷方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體制造工藝所涉及的以離子注入裝置、離子摻雜裝置、等離子體成像裝置 為首、使用了電子束、極紫外線(EUV)光刻術(shù)等的曝光裝置、硅晶片等的晶片檢查裝置等的 各種裝置中，使用用來吸附和保持半導(dǎo)體基片的靜電吸盤裝置。另外，在液晶制造領(lǐng)域中， 把液晶壓入玻璃基片等中時(shí)使用的基片貼合裝...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。