技術編號：7205911
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及，更具體地說，涉及一種設置了用于提供源氣體 (source gas)的噴頭(shower head)的。背景技術半導體器件在硅基板上有許多層，這些層是通過沉積工藝形成在硅基板上的。這 種沉積工藝存在幾個重要問題，這些問題對沉積膜的評估和沉積方法的選擇是必不可少 的。第一個問題是沉積膜的質量。質量是指沉積膜的成分、污染度、缺陷密度和機電特 性。膜的成分根據(jù)沉積條件而改變，對于獲得特定成分是很重要的。第二個問題是整個晶片上沉積的膜的均勻厚度。具體地說...
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