技術(shù)編號：7205105
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種使用原子力顯微鏡的探針來。 背景技術(shù)集成電路(IC)的生產(chǎn)經(jīng)過電路設(shè)計、晶片制作、測試及封裝步驟。形成的布圖是 被轉(zhuǎn)移到硅晶片上的一組圖案。這種圖案通過利用光掩模或光罩的光刻工藝而產(chǎn)生。傳統(tǒng) 的光掩模包括透明的熔融石英基底，其上形成有鉻圖案。制作出的光掩模中所存在的缺陷可能會成為集成電路(IC)工藝中降低成品率的 源頭。這些缺陷可以包括污染、鉻斑點(diǎn)、孔、殘留物、粘結(jié)不足、凹陷或劃痕，這些缺陷可產(chǎn)生 于光掩模的設(shè)計過程、光掩模的制作過程以及后續(xù)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。