技術(shù)編號：7205005
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種襯底固持器(substrate holder)、襯底支撐設(shè)備、襯底處理設(shè)備 以及襯底處理方法，且更明確地說，涉及一種適于改進處理效率和襯底的背表面處的蝕刻 均勻性的襯底固持器、襯底支撐設(shè)備、襯底處理設(shè)備以及襯底處理方法。背景技術(shù)一般來說，半導體設(shè)備以及平面顯示設(shè)備通過以下操作來制造將多個薄層沉積 在襯底的前表面上，以及蝕刻所述薄層以在襯底上形成具有預定圖案的裝置。即，通過使用 沉積設(shè)備來將薄層沉積在襯底的前表面上，且接著通過使用蝕刻設(shè)備來將薄...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。