技術(shù)編號(hào)：7191730
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種真空滅弧室，尤其涉及一種真空滅弧室觸頭。技術(shù)背景真空滅弧室是真空開關(guān)的關(guān)鍵元件，擔(dān)負(fù)著控制電弧的任務(wù)，電路的切斷 與關(guān)合都靠真空滅弧室中的觸頭來(lái)完成。為了提高真空滅弧室的短路電流開斷 能力，采用了真空電弧的磁場(chǎng)控制技術(shù)。目前大電流真空電弧的磁場(chǎng)控制技術(shù) 有兩種，橫向磁場(chǎng)控制技術(shù)和縱向磁場(chǎng)控制技術(shù)。橫向磁場(chǎng)的方向與電弧弧柱 垂直，磁場(chǎng)與電弧電流作用產(chǎn)生的安培力驅(qū)動(dòng)真空電弧在觸頭表面快速旋轉(zhuǎn)， 減輕對(duì)觸頭表面的燒蝕，使真空開關(guān)的開斷能力增強(qiáng)；...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。