技術(shù)編號(hào)：7189272
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻投射設(shè)備，包括輻射系統(tǒng)，用于提供波長(zhǎng)等于或小于250nm的電磁射線投射射束；支撐構(gòu)件，用于支撐構(gòu)圖裝置，構(gòu)圖裝置用于按預(yù)定的圖形對(duì)所述投射射束構(gòu)圖；襯底臺(tái)，用于固定襯底；以及投射系統(tǒng)，用于將已構(gòu)圖的射束投射到襯底的目標(biāo)部分。背景技術(shù) 本文中用的術(shù)語(yǔ)“構(gòu)圖裝置”從廣泛的描述而言，是指該裝置可賦予入射的射線射束有構(gòu)圖的橫截面，對(duì)應(yīng)要在襯底的目標(biāo)部分構(gòu)成的圖形；本文中還用了術(shù)語(yǔ)“光閥”。通常，所述的圖形應(yīng)對(duì)應(yīng)在目標(biāo)部分中形成的、諸如集成電路或其它器...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。