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磁存儲裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:7188979

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本發(fā)明涉及在存儲單元中使用磁阻效應(yīng)元件的磁存儲裝置。近年來,在包括2個強磁性層之間插入絕緣層(也稱隧道阻擋層)的層狀結(jié)構(gòu)的強磁性隧道結(jié)中,通過隧道磁阻效應(yīng)(TMR效應(yīng))得到20%以上的磁阻變化率(MR比)(J.Appl..Phys.,79,4724(1996))。以此為契機,使用利用隧道磁效應(yīng)的強磁性隧道結(jié)磁阻效應(yīng)元件(以下也稱TMR元件)的MRAM得到期待和重視。在MRAM中使用TMR元件的情況下,在夾著隧道阻擋層的二個強磁性層內(nèi),以其一的磁化方向不變化...
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