技術(shù)編號：7183469
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及基板處理裝置。背景技術(shù)以往，作為分批式的基板處理裝置，主要使用熱壁型的CVD裝置。反應(yīng)爐由石英部件構(gòu)成，對反應(yīng)爐的加熱采用電阻加熱方式。在對反應(yīng)爐進(jìn)行加熱的情況下，對整個反應(yīng)爐進(jìn)行加熱，通過控制部對爐內(nèi)的溫度進(jìn)行控制。原料氣體通過供給用噴嘴等進(jìn)行供給，由此，在基板上形成膜。(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。 專利文獻(xiàn)1 日本特開2008-277785號公報 但是，在使用以往的熱壁CVD裝置并通過一般的手法在基板上形成膜的情況下， 不僅在基板表面，在基板背...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。