技術(shù)編號：7165711
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及微光學(xué)腔，具體為。 背景技術(shù)光學(xué)腔是現(xiàn)代光學(xué)測試、光學(xué)計量和光學(xué)分析以及一般光學(xué)實驗不可缺少的工具之一，從激光的產(chǎn)生、激光模式的檢測、模式選擇到腔增強的各種效應(yīng)，光學(xué)腔的用途越來越廣泛；其中超穩(wěn)定超高精細度的微光學(xué)腔由于其極高的精細度和極小的膜體積，在目前的高精密測量、微弱信號檢測以及光電工程技術(shù)和前沿科學(xué)研究中占有重要的地位。隨著技術(shù)的發(fā)展和實際需要，高反射多層介質(zhì)膜技術(shù)目前可以做到I-R=I. 6ppm，理論上可以達到1-R=10_9，其中R...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。