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半導體器件制作方法技術資料下載

技術編號:7163301

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本發(fā)明涉及集成電路制造領域,特別涉及一種。 背景技術隨著半導體芯片的集成度不斷提高,晶體管的特征尺寸隨之不斷縮小。當進入到 130納米技術節(jié)點之后,受到鋁的高電阻特性的限制,銅互連逐漸替代鋁互連成為金屬互連的主流。由于銅的干法刻蝕工藝不易實現(xiàn),銅互連線的制作方法不能像鋁互連線那樣通過刻蝕金屬層而獲得,現(xiàn)在廣泛采用的銅互連線的制作方法是稱作大馬士革工藝的鑲嵌技術。該大馬士革工藝包括只制作金屬導線的單大馬士革工藝和同時制作通孔(也稱接觸孔)和金屬導線的雙大馬士...
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