技術(shù)編號：7161763
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本公開涉及用于在襯底上制造諸如集成電路(IC)之類的半導(dǎo)體器件的襯底處理技術(shù)，并且更具體地涉及用于通過處理諸如半導(dǎo)體晶片(此后稱作晶片)之類的襯底來制造半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體制造設(shè)備，用于處理襯底的襯底處理裝置或者半導(dǎo)體器件制造方法。背景技術(shù)作為用于在襯底上形成膜的膜形成方法的示例，存在物理氣相沉積方法(PVD)方法、化學(xué)氣相沉積(CVD)方法以及原子層沉積(ALD)方法。PVD方法指的是通過使用離子轟擊或者熱能從固體原材料物理地釋放氣相中的原材料原子而在襯底...
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