技術(shù)編號：7157256
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造工藝，具體而言涉及一種形成FinFet器件的鰭(Fin)的方法。背景技術(shù)鰭式場效應(yīng)晶體管(FinFet)是用于22nm及以下工藝節(jié)點的先進半導(dǎo)體器件，其可以有效控制器件按比例縮小所導(dǎo)致的難以克服的短溝道效應(yīng)。在制作FinFet的過程中，鰭(Fin)的制作對于半導(dǎo)體制造工藝而言是具有挑戰(zhàn)性的，因為22nm及以下工藝節(jié)點下的Fin的高度為30-40nm，對應(yīng)于一定的深寬比，F(xiàn)in的寬度僅為12_17nm。由此可見，在鰭(Fin)的制作過程中...
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