技術(shù)編號：7142331
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于集成電路制造工藝中的分析檢測，具體涉及。背景技術(shù) 隨著集成電路的不斷發(fā)展，晶體管的最小線寬不斷縮小，先進CMOS工藝中晶體管柵極的長度已經(jīng)接近0.1微米。特征線寬的不斷縮小導致了芯片集成度的大幅度提高，但是細小的線條給工藝分析帶來了很大的困難。斷面分析是開發(fā)和監(jiān)控集成電路生產(chǎn)工藝的重要分析手段，它通過在需要分析的區(qū)域沿硅片厚度方向切斷硅片，然后將斷面樣品拿到斷面掃描電子顯微鏡下放大觀察，分析工藝中的問題或器件失效的原因，是集成電路行業(yè)不可缺少的分...
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