技術(shù)編號：7135615
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)設(shè)備分步重復(fù)投影光刻機(jī)和步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)高分辨力投影成像中的投影光學(xué)光刻偏振成像系統(tǒng)。背景技術(shù) 對超大規(guī)模集成電路器件的迫切需求，促進(jìn)了投影光學(xué)光刻技術(shù)的飛速發(fā)展，為了延長投影光學(xué)光刻技術(shù)的極限和壽命，近年來，常采用短波長、大數(shù)值孔徑、以及離軸照明技術(shù)等等。然而隨著數(shù)值孔徑的增大，曝光波長的縮短，基于偏振性的矢量衍射效應(yīng)對光刻圖形的影響越來越大，如光刻的最小特征尺寸接近和低于曝光波長；高數(shù)值孔徑的投影光學(xué)系統(tǒng)的使用導(dǎo)致了...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。