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技術(shù)編號(hào)：7107812

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本發(fā)明涉及。背景技術(shù)以往，作為斷開耐壓高的功率器件，作為氮化物系化合物半導(dǎo)體元件，公知的有用于緩和由基板和氮化物系化合物半導(dǎo)體之間的晶格常數(shù)差以及熱膨脹系數(shù)差引起的變形的緩沖層的元件(例如參照專利文獻(xiàn)1-5)。該緩沖層重復(fù)具有包含AlN層和GaN層的復(fù)合層。專利文獻(xiàn)I日本特開2007-88426號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本特開2009-289956號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3日本專利第4525894號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4日本特開2010-239034號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)5日本特表2007...
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