技術(shù)編號：7106855
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及顯示，特別是涉及一種陣列基板及其制備方法、顯示器件。背景技術(shù)低溫多晶硅(LTPS)擁有更高的電子遷移率，被認(rèn)為是最佳的有源矩陣液晶顯示器(AMLCD)和AMOLED的背板技術(shù)，現(xiàn)有技術(shù)中多采用固相結(jié)晶法(SPC)或準(zhǔn)分子激光晶化(ELA)技術(shù)，來制造多晶硅薄膜晶體管(TFT)。但是，SPC方法所需結(jié)晶溫度相當(dāng)高(>600°C)，致使其成本高、不宜于大面積化；ELA技術(shù)雖結(jié)晶溫度較低，但所需設(shè)備昂貴，受制于激光束尺寸，不利于大面積化量產(chǎn)。目前...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。