技術編號：7106036
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及集成電路制造領域，特別涉及一種。背景技術隨著工藝節(jié)點縮至45納米及其以下，為滿足器件尺寸縮小而引發(fā)的新要求，金屬柵極被廣泛應用。目前，金屬柵極形成方法包括如下步驟首先，在襯底上形成柵介質層；接著，在所述柵介質層上形成圖形化的非晶碳層；接著，形成環(huán)繞所述圖形化的非晶碳層的側墻；接著，形成覆蓋所述圖形化的非晶碳層及側墻的層間介質層；接著，平坦化所述層間介質層并暴露所述圖形化的非晶碳層；接著，采用氧氣灰化工藝去除所述圖形化的非晶碳層，在所述層間介質層內...
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