技術(shù)編號：7065181
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供了，改進了現(xiàn)有的雙面鈍化方法，在低壓化學(xué)氣相沉積反應(yīng)腔室中進行，反應(yīng)腔室中具有夾持器件，包括將多個半導(dǎo)體器件襯底以一定的間隔排列于反應(yīng)腔室的夾持器件上；半導(dǎo)體器件襯底的兩面均暴露出來；采用低壓氣相沉積工藝向半導(dǎo)體器件襯底的兩面同時沉積鈍化膜；其中，所采用的反應(yīng)氣體同時進入半導(dǎo)體器件襯底的兩面且同時在半導(dǎo)體器件襯底的兩面以熱激活方式沉積鈍化膜從而在反應(yīng)腔中實現(xiàn)兩面同時沉積鈍化膜的過程，克服了現(xiàn)有的雙面鈍化工藝只能在一面沉積的弊端；其可以應(yīng)用于規(guī)?；?..
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。